Calibre LFD

Calibre LFD моделирует влияние отклонения параметров процесса фотолитографии на выход годных при изготовлении кристалла. Приложение выполняет три основных задачи:

  • Собирает информацию о том, как будет воспроизводиться рисунок не только при идеальных условиях фотолитографии, но и при различных отклонениях (расфокусировка, отклонения в дозировке, смещение маски и др. отклонения);
  • На основе собранной информации моделирует возможные отказы, которые могут повлиять на выход годных;
  • Присваивает каждой области топологии специальный индекс (DVI), характеризующий возможное влияние отклонения параметров на выход годных.

На основе полученной информации разработчики выбирают варианты реализации топологии, наименее подверженные влиянию отклонений. В результате проект верифицируется как с точки зрения DRC-, так и LFD-чистоты. Приложение интегрировано как с платформой Calibre, так и с маршрутами других поставщиков.

calibre_lfd.png